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为加强学术交流,开阔科研人员思路和视野,提高科研水平,3月10日,“墨园学堂”第四十五讲在博雅厅举行。本次活动邀请到国科大杭州高等研究院物理与光电工程学院丁松园教授作报告,BGI相关科研人员到场学习并参与交流探讨。标号石墨烯材料研究部—通用薄膜及蒙烯金属课题组组长孙禄钊主持活动。 报告中,丁松园教授以“石墨烯基纳米红外光子学和光电子学”为主题,介绍了其团队近年来发展的一种快速升降温化学气相沉积方法,进而制备出了较高质量的少层石墨烯包覆氧化亚锰纳米结构,并就该新型领域面临的机遇和挑战进行了系统的阐释和论述。 丁松园教授的报告内容丰富,研究视角新颖,对石墨烯材料制备技术具有重要的理论和实践指导意义。在最后的提问环节,丁松园教授与现场人员就相关技术与研究进行了深入交流与探讨
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