光刻机全新突破！国产DUA光刻机问世，相关概念股全梳理

主要观点总结

光刻机技术取得新突破，国产芯片产业迎来新机遇。工信部发布指导目录，包含国产氟化氩光刻机和氪氟化物光刻机的应用。这一突破为国产芯片制造提供技术支撑，有助于摆脱海外技术制约。上海微电子在光刻机研发中起关键作用，整个光刻机产业链也迎来发展机遇。光刻机的技术突破对国产芯片产业未来展望有重要影响。

关键观点总结

关键观点1: 光刻机技术取得历史性进展

工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，包含氟化氩光刻机和氪氟化物光刻机的应用。这标志着中国在高端芯片制造设备领域的自主化能力大幅提升。

关键观点2: 上海微电子在光刻机研发中的关键作用

作为国内光刻机研发的领军企业，上海微电子推进了国产光刻机的研发和量产，尤其在高端设备方面取得令人瞩目成绩。其控股股东上海电气控股集团提供了资源与资金支持。

关键观点3: 光刻机产业链的崛起

光刻机是芯片制造的核心设备，随着国产光刻机技术的进步，整个光刻机产业链也迎来了新的发展机遇。各环节的技术突破都至关重要，包括整机制造、光源、光学器件、清洗设备等。

关键观点4: 国产芯片产业的未来展望

光刻机的技术突破预示着国产芯片制造将逐步实现自主可控，推动国内芯片企业摆脱对进口设备的依赖，加速半导体产业链的完善。这将有助于国内芯片制造企业生产出更先进、更高性能的芯片产品，提升国际竞争力。

文章预览

各位消费者注意了！ 光刻机技术取得新突破，国产芯片产业迎来新机遇 9月9日，工信部正式发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中包含了国内自主研发的氟化氩光刻机和氪氟化物光刻机的应用。 这一消息标志着我国光刻机技术取得了历史性进展，将为国产芯片制造提供强有力的技术支撑，有望帮助国内芯片企业逐步摆脱海外技术制约。 光刻机技术的重大突破 根据工信部发布的信息， 氟化氩光刻机支持65纳米制程，具有300毫米晶圆直径和193纳米的照明波长，分辨率小于6.5纳米，具备高精度的套刻能力。而氪氟化物光刻机支持110纳米制程，拥有248纳米的照明波长，分辨率小于110纳米 。这些光刻机的研发成功标志着中国在高端芯片制造设备领域的自主化能力大幅提升，能够为更先进的芯片生产工艺提供保障。 上海微 ………………………………