光刻机最正宗龙头，业绩飙升350%，值得10年陪伴的千里马！

主要观点总结

本文介绍了中国半导体设备行业在光刻机方面的突破，尤其是富创精密公司在光刻机零部件领域的优势和发展前景。文章提到了富创精密的产品多样性、技术填补国内空白、丰富的客户资源以及半导体设备市场扩张和国产替代的趋势。最后强调了光刻机的突破对半导体设备国产替代的推动作用。

关键观点总结

关键观点1: 中国半导体设备销售额及国产化率

2023年中国半导体设备销售额为342亿美元，国产化率为11.7%。光刻机国产化率只有2.5%。

关键观点2: 光刻机领域的新突破

我国在光刻机领域取得重大成果，特别是在中高端DUV光刻机方面，国产替代迈出一大步。

关键观点3: 光刻机的技术难点与国产机遇

光刻机的技术难点主要体现在整机技术和零部件两个方面。国内企业在零部件方面存在巨大的发展机遇。

关键观点4: 富创精密的优势与发展前景

富创精密作为平台型生产商，产品大类丰富，技术填补国内空白，客户资源丰富且优质。随着半导体设备市场扩张和国产替代趋势，富创精密有望充分受益。

关键观点5: 半导体设备市场趋势与国产替代空间

随着智能化趋势的发展，全球半导体设备市场规模将持续增长。同时，国产替代空间巨大，为富创精密等国内企业提供了广阔的发展空间。

文章预览

念念不忘，必有回响。 2023 年中国半导体设备销售额 342 亿美元，其中自供约 40 亿，国产化率 11.7% 。但光刻机国产化率只有 2.5% 。  好消息是， 9 月我国光刻机取得重大成果， 28 纳米及以上芯片量产自主可控有望从理想变为现实。 此前，光刻机市场佳能（ Canon ）、尼康（ Nikon ）和阿斯麦（ ASML ）呈现“一超双强”的格局，几乎垄断全球供应。 2023 年三家合计销售 681 台，其中阿斯麦 出货量 449 台，占比高达 66% ，在 DUV 和 EUV 光刻机领域具有绝对优势。   我们所突破的，虽然不是最高端的 EUV 光刻机，但却是 需求量最大 的中高端 DUV 光刻机，国产替代有望迈出一大步。 那么，光刻机哪些方面这么难攻克？ 与其他设备一样，无非体现在整机技术和零部件两个方面。 整机上没什么好说的，光刻机的技术路线基本上比较固定，需要上海微电子等整机 ………………………………