主要观点总结
本文主要介绍了材料行业,特别是半导体材料行业的现状和难点,以及日本在半导体材料研发和生产方面的最新进展。文章还讨论了材料行业难以被追赶的原因,包括基础科学的研发、流程工业中的技术的黑箱化以及生产过程中的经验和knowhow的重要性。
关键观点总结
关键观点1: 材料行业是美国日本欧洲占据着高端领域,技术更容易被黑箱化,生产过程中的经验和技能非常重要。
文章介绍了材料行业的现状,指出其技术难度和重要性,并解释了为什么材料行业很难被追赶。
关键观点2: EUV光刻机是半导体制造中的关键设备,日本企业在相关材料中占据重要地位。
文章详细描述了日本企业在EUV光刻胶、EUV光罩、保护膜等方面的研发和生产情况,以及在第四代半导体材料领域的最新进展。
关键观点3: 日本企业在半导体材料生产过程中的经验和knowhow非常重要。
文章强调了生产过程中的经验和技能的重要性,并指出这是材料行业难以被追赶的原因之一。
文章预览
材料行业是美国日本欧洲占据着高端领域,为什么很难被追赶?材料行业技术更容易被黑箱化,生产过程中的经验和技能非常重要。 文丨李海燕 本文为“透视日本半导体产业系列”之三 EUV光刻机背后的无名英雄 最近几年,中国上下对荷兰ASML的EUV光刻机倍加关注。但是很多人不知道是,即使有了荷兰的EUV光刻机,没有日本相关公司提供的材料,EUV光刻机是没办法开动的。EUV光刻机工作中最重要的材料有两个,一个是EUV光刻胶,一个是EUV光罩。这两个产品,日本企业有极强的存在感。EUV光刻胶的市场份额由东京应化工业、JSR和信越化学三家日本公司100%占有。EUV光罩是高纯度石英基板上面交互堆积大约80层左右的钼(大约3纳米一层)和硅(大约4纳米一层)的薄层构成的。EUV光罩基板(photo mask blank)是由高纯度的,基本没有膨胀、高度洁净的石英制
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