【授权】京东方“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”专利获授权；芯视元“图像数据编码、解码、传输方法和系统”专利公布

主要观点总结

本文报道了京东方、飞骧科技和芯视元三家公司的专利获授权或公布的情况。京东方获得了一项薄膜晶体管及其制备方法的专利，飞骧科技获得了一项横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组专利，芯视元公布了一项图像数据编码、解码、传输方法和系统的专利。此外，文章还报道了其他新闻热点，如荣耀副董事长辞职、半导体成熟制程报价变动、芯片工厂出售等。

关键观点总结

关键观点1: 京东方获得薄膜晶体管专利授权

该专利包括薄膜晶体管的构造及其制备方法，涉及显示装置的关键技术。

关键观点2: 飞骧科技获得体声波滤波器专利授权

该专利涉及横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组，简化了制造过程，降低了难度和成本，提高了滤波器的性能和稳定性。

关键观点3: 芯视元公布图像数据编码、解码、传输系统专利

该专利涉及图像数据处理的先进方法，包括灰阶映射处理和信号噪声的减少，能提高图像输出质量和稳定性。

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1.京东方“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”专利获授权 2.飞骧科技“横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组”专利获授权 3.芯视元“图像数据编码、解码、传输方法和系统”专利公布 1.京东方“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”专利获授权 天眼查显示，京东方科技集团股份有限公司近日取得一项名为“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”的专利， 授权公告号为 CN113748521B，授权公告日为2024年9月13日，申请日为2020年3月27日。 一种薄膜晶体管，包括：栅极、栅绝缘层、有源层、离子化非晶硅层、源极和漏极；所述栅绝缘层覆盖于所述栅极上；所述有源层设置于所述栅绝缘层远离所述栅极一侧；所述离子化非晶硅层设置于所述有源层远离所述栅极一侧，所述离子化非晶硅层与所述栅绝缘层接触；所 ………………………………