主要观点总结
本文介绍了在COMSOL Multiphysics软件中模拟均匀介电基板表面刻蚀结构的光散射的方法。重点阐述了一种利用菲涅耳方程和斯涅耳定律模拟单个散射体在介电基板表面的光散射的方法。
关键观点总结
关键观点1: 背景概述
文章介绍了在COMSOL软件中模拟电磁波仿真中均匀介电基板表面刻蚀结构的光散射的方法，特别关注于模拟单个散射体的情况。
关键观点2: 模拟方法
文章指出使用散射场公式模拟单个散射体作为对背景场的一个微扰。需要输入一个背景电场，代表没有散射体时麦克斯韦方程的解。
关键观点3: 背景电场的计算
文章详细描述了如何使用菲涅耳方程和斯涅耳定律计算背景电场，包括TE和TM极化的反射和透射系数，以及如何将极化分量从入射平面转换回全局直角坐标。
关键观点4: COMSOL案例的详细解析
文章以一个具体的COMSOL案例为例，解释了如何将上述方法应用于模拟均匀介电基板上的光散射，并讨论了该方法的优点和适用性。
文章预览
在电磁波仿真中，我们经常遇到的一种情况是：计算均匀介电基板表面刻蚀结构的光散射。本文将介绍一种在 COMSOL Multiphysics® 软件中模拟这种情况的方法。 背景和概述 考虑一个小型光散射体：介电基板表面的金制半圆柱体。我们研究仅存在单个散射体的情况。假设一束准直光线，其直径远大于散射体，所以几乎可以近似为一个平面波。平面波以任意的角度和偏振态入射到半圆柱体结构。假设介电基板在负 Z 轴方向无限延伸。 光以任意角度入射到半无限介电基板表面的单个散射体上。 由于模拟的是单个散射体，可以将其表征为对背景场的一个微扰，因此使用散射场公式是合理的。这个公式需要输入一个背景电场，代表没有散射体时麦克斯韦方程的解。也就是说，以频域的形式求解麦克斯韦方程组： 但是，将总电场写成以下形式： 我们求解的不
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