Eulitha 王智鑫：位移泰伯光刻（DTL）：一种用于制造AR光波导的高通量、高保真光刻解决方案

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2024年9月11日，由VR陀螺联合CIOE中国光博会主办的 「光聚未来•第五届中国AI+AR技术应用高峰论坛」 在深圳国际会展中心顺利举办。   本次活动以“光聚未来”为主题，聚焦AI与AR技术融合发展，从底层核心技术、生产工艺、产品应用多维度展开深度探讨。来自京东方、JBD、芯明、谷东科技、鲲游光电、Eulitha、VR陀螺以及陀螺研究院的行业嘉宾为到场观众带来了精彩的分享，演讲内容干货满满。   其中， Eulitha AG 计算光刻主管 王智鑫 为与会来宾奉上了“位移泰伯光刻（DTL）：一种用于制造 AR 光波导的高通量、高保真光刻解决方案”的主题演讲。   以下为演讲实录（内容略有删减调整）：   我叫王智鑫，非常荣幸能够在这里代表我们公司来分享相关技术和产品。 Eulitha是一家光刻设备和解决方案的供应商，面向光学市场，聚焦于用光刻技术来解决 ………………………………