【MEMS工艺】深度解析双重曝光技术

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双重曝光技术（Double Exposure, DE）正在将人类认知的极限推向新的维度。这项诞生于摩尔定律放缓时代的精密工艺，用两次光影的叠加，在纳米尺度上构建出传统单次曝光难以企及的复杂结构。 希望常见面的话，点击上方即刻关注，设为星标！ 一、光影叠层 在传统光刻工艺中，单次曝光就像用一把刻刀在晶圆表面雕刻图案，而双重曝光则更像是用两把经过精密校准的刻刀，在相同的位置进行两次不同角度的雕刻。其核心奥秘在于光刻胶的"记忆效应"：第一次曝光后，光刻胶分子发生不可逆的化学变化，第二次曝光会在原有图案基础上进行光强叠加，形成复杂的干涉图样。 这种叠加并非简单的1+1=2，而是通过相位调制和空间滤波实现的非线性反应。以制造50nm线宽的1:1线条为例：首次使用200nm周期的掩模版在光刻胶上刻出沟槽阵列，第二次曝光将相同 ………………………………