重大喜讯！国产光刻胶通过量产验证，配方全自主设计

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太紫微公司自主设计的T150 A光刻胶产品，经过严格的量产验证，成功通过了量产验证测试(MVT)。T150 A光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610..... 电子工程专辑讯 近日，武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称“太紫微公司”)自主设计的T150 A光刻胶产品，经过严格的量产验证，成功通过了量产验证测试(MVT)。 光刻胶是半导体制造中的关键材料，其研发和生产过程复杂且严格。光刻胶是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。 光刻工艺流程包括前处理、涂胶、软烘烤、对准曝光、PEB(Post Exposure Bake)、显影、硬烘烤和检验等八个环节。在这些环节中，光刻胶的性能直接影响到集 ………………………………