光刻机产业链图详解

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导语 目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类 今日免费下载： 2023光刻机行业报告 来源：平安证券、南方财富网 光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观， 目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类； 分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标， 其中，分辨率直接决定制程，极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求，是光刻机最重要的指标，而套刻精度影响良率，产率影响光刻机的产能及经济性， 此外，多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程，应用较为广泛。 ASML、Nikon、Canon是全球光刻机产业三大龙头，占据绝大部分市场份额， 其中ASML 在高端浸没式DUV及EUV方面绝对领先，Nikon在浸没式DUV方面也有少量出货，Canon则聚焦 ………………………………