北京科技大学敖秀玮、清华大学孙文俊团队ES&T：222纳米远紫外光在卡马西平光降解过程中原位生成的活性氧——水分子的意外作用

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‍‍‍‍‍‍‍ ‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍ ‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍‍ 点击上方蓝字 关注我们 第一作者： 张茜 通讯作者： 敖秀玮、孙文俊 通讯单位 ： 北京科技大学、清华大学 图片摘要 成果简介 近日， 北京科技大学能源与环境工程学院敖秀玮 副教授团队和清华大学环境学院孙文俊副研究员团队在环境领域著名学术期刊 Environmental Science & Technology 上发表了题为“ Reactive Oxygen Species Generated in Situ During Carbamazepine Photodegradation at 222 nm Far-UVC: Unexpected Role of H 2 O Molecules ”的论文 。该工作首次揭示了卡马西平（ CBZ ）在 222 nm 远紫外（ far-UVC ）辐照下自由基产生和激发态失活的机理，为有机污染物在 222 nm far-UVC 的光解提供了有价值的见解 。 引言 近几十年来，紫外线（ UV ）技术在水处理领域的应用取得了显著进展，其应用范围已远远超出了 ………………………………