ASML和IMEC开设High NA EUV光刻实验室

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‍ ‍ 集微网·爱集微APP，各大主流应用商店均可下载 ASML于当地时间6月3日宣布，与比利时半导体研究机构IMEC共同开设了一个High NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻实验室，业界可以在这里利用最先进的光刻机TWINSCAN EXE:5000进行试验和优化芯片制造，有助于推动摩尔定律进入埃米（0.1纳米）时代。 英特尔官方也在ASML在社交媒体发布的贴文中回复：“这是芯片制造行业的大日子，很高兴看到这一愿景得以实现，并共同加速下一代芯片的诞生。”2024年4月，英特尔宣布完成组装世界首台ASML High NA EUV光刻机，这款设备价值约3.8亿美元，可用于制造更小制程的芯片。迄今为止，ASML仅向英特尔发货了一台这款光刻机，英特尔计划在其14A制程工艺中使用。 IMEC总裁兼CEO Luc Van den hove表示，“High NA EUV是光刻技术的下一个里程碑，有望在单次曝光中实现20nm间距的 ………………………………