SEMICON China 2025启航，拓荆科技携多款新品亮相

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2025年3月26日，全球半导体行业年度盛会SEMICON China将在上海新国际博览中心拉开帷幕。据悉，作为中国半导体薄膜沉积设备领域的领军企业，拓荆科技（6 88072 ）将在展会首日（ 3月26日）上午11:00于E6馆6413展位举办“拓芯章·见未来”新品发布会，重磅亮相多款覆盖先进制程节点的半导体核心设备。 成立于2010年的拓荆科技，长期致力于前道薄膜设备领域的研发与产业化，经过多年深耕成功打破该领域长期被国际巨头垄断的局面，公司自主研发的离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备等系列的应用覆盖面及量产规模不断提升。近五年拓展了3DIC和先进封装产品，晶圆混合键合(W2W Hybrid Bonding)设备。2024年反应腔出货量超过1000个，进入了70多条产线。此次发布会既 ………………………………