Hyper-NA光刻系统，价格会再次翻倍吗？

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电子发烧友网报道（文/周凯扬）随着去年年底首台高NA EUV光刻系统正式交货给英特尔，ASML这条新的产品线似乎即将开启新一轮的先进晶圆制造设备统治。可正如别的先进技术一样，ASML已经开始在规划下一代的Hyper-NA EUV光刻系统了。 从High-NA到Hyper-NA 在描述光学仪器角分辨率的瑞利准则等式（CD = k1 • λ / NA）中，CD为关键尺寸，又名线宽，代表了光刻工艺中的图形处理精度。为了进一步提高这一精度，只有从k1（k1系数）、λ（光源波长）和NA（数值孔径）上下手。其中k1是光刻工艺中由多个因素影响的系数，但其物理极限已经被确定在了0.25，所以提高精度的可行方案就被限制在了更小的光线波长和更高的数值孔径上。 2022年，ASML宣布了基于0.55NA打造的新一代EUV光刻系统，系列代号为EXE:5000，首个EXE:5000机器打造的芯片将基于英特尔的2nm逻辑工艺节点 ………………………………