光刻机概念能否延续，带动半导体板块反转？

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点击上方蓝字 “优优投顾 ” >右上角…>设为星标⭐ 01 热点解读 中秋节后第一个交易日，9月18日早盘， 张江高科 一字涨停，带动光刻机（胶）概念走高。 消息面上， 9月9日，荷兰最近调整了关于光刻机出口的政策，根据新规，ASML公司旗下两款先进制程的深紫外光刻机T WINSCAN NXT:1970i 和1980i DUV，若需出口至欧盟以外国家，须获得当局批准。 9月初，工信部公告了一项 关于集成电路生产设备的指导目录 ，内容涉及氟化氪和氟化氩这些深紫外光刻机的核心组件。 在光刻机的分类中，根据光源的不同，光刻机被划分为 紫外光刻机 、 深紫外光刻 机和 极紫外光刻机 。紫外系列使用汞灯，覆盖从436nm到365nm的制程节点；深紫外系列借助准分子激光，波长可达248nm，以支持先进工艺需求；而极紫外光刻机则代表了未来发展方向，旨在攻下7nm以下的战场。 02 最 ………………………………