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近日,Solus Advanced Materials宣布,已获得英伟达最终量产许可,将向铜箔积层板(CCL)制造商斗山电子供应HVLP铜箔,其将搭载在英伟达计划今年上市的新一代AI加速器上。 HVLP铜箔是一种表面粗糙度在0.6微米(μm)以下的高端铜箔,全称为高频超低轮廓铜箔,具有硬度高、粗化面平滑、热稳定性好、厚度均匀等优势,可最大限度地减少电子产品中的信号损失。由于其低信号损耗的特性,它不仅用于AI加速器,还用于5G通信设备和网络基板材料, 以实现高效信号传输。 索路思高端材料的首席执行官Kwak Geun-man表示: “我们的HVLP铜箔在AI加速器市场首次实现量产是一项伟大的成就,该市场自ChatGPT出现以来一直在快速增长,”他补充道,“ 除了此次获得量产批准的‘N公司’之外,我们还获得了‘A公司’下一代AI加速器用铜箔的产品批准,性能测试也在进行中
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