光刻机中的长江电力，中央汇金爆买上千万，9月就看它

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明确告诉大家。 接下来三年中国科技将会迎来史诗级飞跃。 因为就在近期， 我国在光刻机领域又迎来了重大突破。 先是 工 信部官宣了氟化氪（ KrF ）光刻机、氟化氩（ ArF ）光刻机技术。 据悉前者采用了 193 纳米光源，分辨率达到了≤ 65nm ，套刻精度更是惊人地≤ 8nm ，这一性能直接指向了先进制造工艺的边界。 而 后者则实现了光源实际波长从传统的 193nm 缩短至 134nm ，结合高数值孔径（ NA 1.35 ）技术，使得该光刻机在理论上能够支持最高达 7nm 的制程节点。 其次是中科院在 2016 年就成功研发了紫外纳米压印光刻机，并且取得了 20 多项 EUV 专利，而在这随后几年内，它更是研发出了光刻机最重要的光源系统、光学系统以及双工作台系统。 大家要知道，光刻机作为现代工艺的集大成者，它的制造过程不仅集齐了物理学，机械工程学、电子力学等 ………………………………