ILT技术实现新突破，计算光刻进入3.0时代！

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‍ 集微网·爱集微APP，各大主流应用商店均可下载 在半导体制造领域，计算光刻技术是推动芯片制程不断突破的关键因素之一。随着集成电路的尺寸不断缩小，计算光刻技术应运而生，成为提升光刻精度和芯片性能的重要手段。在国内尖端光刻设备受限的背景下，其重要性更是不言而喻。 在这一技术革新的浪潮中，东方晶源以其前瞻性的布局和强大的研发能力，成为推动计算光刻技术发展的先锋，以及国内半导体制造行业实现技术飞跃的关键力量。 从基于规则、模型到基于ILT，计算光刻进入3.0时代 光刻是将集成电路器件的结构图形从掩膜转移到硅片或其他半导体基片表面上的工艺过程，是实现芯片制造的关键技术。在摩尔定律的推动下，集成电路的尺寸不断缩小，光刻技术同样逐步逼近其分辨率的物理极限，同时光刻系统的衍射受限特性，以及 ………………………………