俄罗斯首台国产光刻机已完成制造，可生产350nm制程芯片

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5月25日消息，据俄罗斯塔斯社报道称，在CIPR 2024会议期间，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）告诉塔斯社记者，俄罗斯首台国产光刻机已经制造完成，并正在泽列诺格勒进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。 虽然350nm是一种非常成熟的制程，但是依然可以满足部分汽车、能源和通信行业的芯片需求。 早在2023年，Vasily Shpak在接受媒体采访时就曾表示，2024年俄罗斯将开始生产350nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。光刻机的生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。 光刻机对于半导体的生产极为重要，当前全球只有荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国的上海微电子这四家公司能够生产光刻机，但是能够生产先进制程的光刻机只有ASML、尼康和佳能能够供应。 Vasily Shpak此前就曾指出 ………………………………