主要观点总结
文章主要介绍了九峰山实验室的科研团队,特别是氮化镓刻蚀技术的专家葛晓明及其团队的工作和生活情况。葛晓明作为技术领域的年轻一代,在国际会议上进行了主题演讲,分享最新的研究成果,并且面临着巨大的工作压力和挑战,不断挑战自己,持续学习和进步。
关键观点总结
关键观点1: 葛晓明代表九峰山实验室分享最新研究成果。
葛晓明在国际电子科学与工程会议上分享氮化镓刻蚀技术的最新研究成果,这是她和团队多年努力的结果。
关键观点2: 九峰山实验室的团队构成和工作环境。
九峰山实验室的团队主要由年轻的科研人员构成,平均年龄只有三十出头,团队成员之间平等自由地讨论问题,这种氛围有助于激发创新灵感。
关键观点3: 葛晓明和团队面临的工作挑战和学习态度。
葛晓明和团队在工作中遇到很多难题,无法从文献报告中找到答案。他们通过持续学习,不断挑战自己,以每天进步一点点的态度,解决了一个又一个工艺难题。
关键观点4: 九峰山实验室的成果和影响。
九峰山实验室在半导体领域取得了显著成果,吸引了众多企业和高校的合作。实验室已经为国内首家开发出具有完全自主碳化硅沟槽MOSFET结构知识产权的单位。此外,实验室还吸引了近30家半导体链条企业比邻而居,形成了一个未来产业生态。
文章预览
“人生第一次在国际会议上作主题演讲,请多多指教!”11月24日,正在参加2024国际电子科学与工程会议的“90后”、湖北九峰山实验室工艺中心工艺技术专家葛晓明,发布了一条朋友圈。 会上,葛晓明代表九峰山实验室向来自世界各地的顶尖专家、学者们分享了最新研究成果——高效、低损伤的氮化镓(GaN)刻蚀技术。这是葛晓明和九峰山实验室诸多年轻人科研生活的一个片段。 葛晓明博士(左二)与团队成员在洁净室进行实验研究。 不分年龄“段位” 每个人都是项目经理 早晨8时30分,葛晓明疾步走进办公室,开启了一天的工作。 沿着九峰山实验室9000平方米洁净室的外围行走,穿过被黄光包围的“光刻区”,就是葛晓明工作的“刻蚀区”。5分钟不到,葛晓明和同事们便娴熟地换上无尘服,进入洁净室。 目前,葛晓明主要负责氮化镓(GaN)
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