英伟达黄仁勋：GAA 工艺或仅带来 20% 性能提升，架构与软件创新更为关键

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本文转自：IT之家 作者：远洋 据 EE Times 报道，英伟达（Nvidia）首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）在近期 GTC 大会的一场问答环节中表示，依赖全环绕栅极（Gate-All-Around, GAA）晶体管的下一代制程技术可能会为公司处理器带来大约 20% 的性能提升。然而他同时强调，对于英伟达的 GPU 而言， 最主要的性能飞跃源于公司自身的架构创新以及软件层面的突破。 当被问及未来几代英伟达 GPU 架构（如预计在两代后即 2028 年推出的费曼架构）时，黄仁勋提及， 如果英伟达转向采用基于 GAA 晶体管的制程技术，应能实现约 20% 的性能增长。 据现场参会的分析师 Jarred Walton 观察，黄仁勋似乎在刻意淡化制程节点更迭的重要性。他强调，随着摩尔定律的放缓，未来全新的制程技术在密度、功耗或能效方面可能仅带来 20% 左右的改进。需要指出的是，黄仁勋此番言论是在 ………………………………