光刻机118页全景式报告

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光刻三剑客：光刻机+光刻胶+光掩膜  光刻工艺是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形 成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。  光刻工艺可以理解为使用光刻技术进行某一类加工的一种工艺；而光刻技术是则指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（即： 光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。典型的光刻工艺流程包括衬底制备、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、 腐蚀、去胶等。在光刻中主要使用工具及材料为光掩膜、光刻机及光刻胶。 光源、数值孔径、工艺系数、机台四轮驱动，共促光刻产业升级。分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定. 分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定 分辨率：指光刻机能够将掩膜版电路图形在衬底面光刻胶上转印的 ………………………………