扩展计算以满足人工智能的需求

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点击蓝字 关注我们 SUBSCRIBE  to US OPTICS LAB 50年前，DRAM发明者、IEEE Medal of Honor奖项获得者Robert Dennard（https://spectrum.ieee.org/thanks-for-the-memories）创造了半导体行业不断提高晶体管密度和芯片性能的道路（https://ieeexplore.ieee.org/document/1050511）。这条路径被称为Dennard缩放，它帮助编纂了Gordon Moore关于设备尺寸每18到24个月缩小一半的假设。几十年来，它迫使工程师不断突破半导体设备的物理极限。 但在本世纪中期，当Dennard的缩放定律开始失去作用时，芯片制造商不得不求助于极紫外 (EUV) 光刻系统等奇特的解决方案，以试图保持摩尔定律的步伐。2017年，在参观位于纽约州马耳他的GlobalFoundries，观看该公司安装其首个EUV系统时（https://spectrum.ieee.org/euv-lithography-finally-ready-for-chip-manufacturing），高级编辑Samuel K.Moore问一位专家，该工厂需要什么才能实现更小的设 ………………………………