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第一作者:孟见 通讯作者:苗智超,周晋,禚淑萍 通讯单位:山东理工大学 论文DOI:10.1016/j.apcatb.2024.124596 全文速览 In基催化剂在CO 2 电还原(CO 2 RR)制备甲酸(HCOOH)领域展现出广泛应用潜力,其核心在于精确调控 p 轨道电子以提升催化效率。碳包覆作为一种有效策略,虽能调控轨道电子结构,但碳层厚度的难以精确控制成为制约针对性电子结构调整的关键因素。因此,精确调控碳层厚度并深入探究其对催化剂电子结构的调控机制,对于开发高性能催化剂具有重要意义。本研究采用原位CVD技术,成功制备出碳层厚度精确可控的碳包覆In 2 O 3 (In 2 O 3 @C)催化剂。该催化剂展现出超过90%的法拉第效率(FE HCOOH ),在110 mA cm ⁻ 2 的恒定电流密度下稳定运行100 h,同时在膜电极组件中也实现了高FE HCOOH 和电流密度。DFT计算与实验结果共同证实,碳层的引入有效优
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