美国，重金砸向EUV技术

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本文由半导体产业纵横（ID： I CVI EWS ）综合 一场价值不菲的科技豪赌。 据报道，美国政府投资价值约10 亿美元的研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔（ASML)。 美国政府支助价值8.25 亿美元的EUV 设备将设于Albany NanoTech Complex，成为首个《芯片法案》计划的R 旗舰设施，并将获得额外使用者资金。半导体设备商应材（Applied Materials) 预计将成为主要参与者之一，以直接与ASML 竞争。面对竞争，ASML 于2024 年6 月与比利时imec 合作，开设类似实验室。 EUV 设备将专注开发最先进的高数值孔径EUV 研发。美国表示，EUV 曝光技术已成为达成7 纳米以下晶体管大量生产的关键技术，包括台积电等主要芯片制造商都采取相关技术。因此，美国政府表示，获得EUV 曝光技术研发的机会，对于延续美国的半导体技术领先地位、缩 ………………………………