科学家打造干式剥离光刻技术，兼容纳米至晶圆级多工艺场景，聚焦湿法光刻技术环境污染及工艺不兼容难题

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近日，湖南大学 段辉高 教授团队针对光刻工艺中湿法溶剂去胶带来的环境和可持续发展问题，开发出一种全新的干式剥离光刻范式。 图 | 段辉高（来源：段辉高） 其通过力学剥离替代传统的湿法溶剂剥离工艺， 实现了无需化学溶剂的图形转移，仅利用普通日用品“胶带”即可完成去胶过程。 该方法从源头上消除了去胶过程中有害化学品的使用，不仅降低了化学足迹，还简化了工艺流程。 该范式具有 100% 的工艺良率，兼容多尺度结构（纳米至晶圆级）及多工艺场景，还可用于难加工衬底表面的图形转移，为绿色光刻和多功能化微纳加工提供了全新解决方案。 该方法既有趣又富有创新性，仅通过胶带以力学方式完成光刻胶剥离，无需使用任何化学溶剂，以一种新的思路解决了传统剥离光刻工艺存在的局限性，是剥离工艺走向泛半导体工业制造的 ………………………………