大连工业大学孙润仓教授团队马纪亮副教授CEJ：界面电子转移与缺陷工程共促光催化CO₂还原耦合生物质选择性氧化

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第一作者：凌玮康 通讯作者：马纪亮副教授，孙润仓教授 通讯单位：大连工业大学 DOI： https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.152729 全文速览 本文以NH 4 Cl为气体模板，采用双氰胺吹扫耦合阶梯煅烧策略构建了一种富含硫空位（Sv）的MoS 2 @GCN S型异质结光催化剂。在Sv和S型电荷转移机制的协同作用下，30%-Sv-MoS 2 @GCN表现出优异的光催化性能。在不使用任何助催化剂的情况下，CO析出率为68.3 μmol g -1 h -1 ，木糖酸产率达到64.2%。通过EPR、 in-situ XPS和DFT计算证实了Sv的形成并验证了Sv-MoS 2 @GCN异质结的S型电荷转移机理，明确了氧化活性种的演化规律及其对产物的影响机制。为生物质能、太阳能和CO 2 的综合高效利用提供了理论基础和技术支撑。 背景介绍 二十世纪以来，随着全球工业化的快速发展，化石能源的过度使用导致以CO 2 为主的温室气体排放量逐年增加，造 ………………………………