之江/浙大匡翠方教授团队 AFM：高灵敏双光子环氧光刻胶实现高速、高精度飞秒激光直写光刻

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点击蓝字关注我们 高灵敏度光刻胶是飞秒激光直写技术（Femtosecond-laser direct writing，fs-LDW） 快速制造大面积高性能器件的核心材料。 阳离子型光刻胶与自由基型 光刻胶 相比具有许多明显的优势，如坚固的机械性能、高热稳定性和化学稳定性、宽加工窗口、低收缩率和无氧阻聚效应。然而， 阳离子型光刻胶双光子吸收差以及光敏性不足，导致其刻写速度慢、分辨率低。传统方法 实现 阳离子型光刻胶 的 高光敏性依赖于增强鎓盐型光引发剂中增敏剂（PS）的双光子吸收截面系数（δ）。这种单分子光酸引发体系通常被设计为具有较大δ值的发色基团，促进激活电子/能量转移过程。单分子引发体系的内在耦合特性使得其难以平衡光吸收和能量转移之间的性能。 要同时实现高灵敏度和高分辨率关键在于两个因素：（1）光敏引发系统的设计，增强双光子 ………………………………