文章预览
文章链接: https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/aelm.202400386 摘要 基于过渡金属二硫族化物(TMDCs)的首次大规模p型浮栅场效应晶体管(FGFET)存储阵列已成功制备。通过化学气相沉积生长的无缝共平面2H-和1T′-MoTe 2 分别作为沟道和源/漏电极,高介电常数Al 2 O 3 层作为隧道层和阻挡层。阵列式的Pd/Au用作浮栅和顶栅。该器件的整体性能在已报道的TMDCs基FGFET存储器中表现优异。典型器件在±10 V和±5 V的栅极电压扫描范围内分别表现出约11.5和2.8 V的大存储窗口,以及约10 4 和10 3 的开关比,具有超过10 5 秒的长保留时间和超过5×10 4 次编程/擦除循环的良好应力耐受性。通过施加短时的±5 V电压脉冲,可精确调节器件的电导。该器件的良品率分别在±10 V和±5 V条件下达到100%和93%。整个制造过程无需转移,且与传统硅技术兼容。此项工作为TMDCs在大
………………………………