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点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击“在看”和“ ”并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 写在前面 一直在路上，所以停下脚步，只在于分享 分享内容包括： 新 材料/ 半导体 / 新能源/光伏/显示材料 等 正文 摘要 光刻胶是光刻过程中至关重要的核心材料，主要由成膜树脂、增感剂、单体、溶剂和助剂组成，是半导体产业核心的卡脖子材料，技术壁垒较高，具备较高的技术壁垒，较依赖进口。光刻胶产业链涉及多个环节，从单体、树脂、光敏材料等原料到显影液、剥离液等配套试剂。中国半导体光刻胶市场依赖进口，主要成分包括 KrF 、 ArF 和 EUV 光刻胶树脂以及光敏材料，其中单体和后处理技术是制约国产化的主要因素。半导体光刻胶配套试剂也是急需国产化的卡脖子产品，其中光敏材料和显影液 & 剥离液是关键。 详情 光刻胶是光刻过程
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