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作者为安捷伦 ICP-MS 研发中心 （日本） 应用工程师 半导体制造过程中的痕量元素污染会影响硅晶圆的电 性能，从而导致缺陷和设备故障。在整个芯片制造过程中都需要使用高纯化学品和超纯水 （UPW） ，以最大程度降低污染的可能性。 工艺和质量控制实验室也要求使用 UPW 对半导体行业中所用的高纯度化学品进行超痕量分析。因此为准确、可靠地测量低浓度分析物，需要低背景水平，必须最大程度减少 UPW 中的痕量元素污染。 纯水通常是指不存在有机和无机 / 离子污染物的水。杂质含量越低，水的电阻率越高，纯水的理论最大电阻率为 18.24
MΩ-cm （兆欧）。半导体行业中广泛使用的 SEMI 标准中，使用术语 “ 超纯水 ” （或 UPW ）来表示具有最高 纯度 (>
18 MΩ-cm) 的水。 实验室级 UPW 系统可购自 Millipore 、 Organo 和 ELGA 等制造商。这些
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