美国安全与新兴技术中心发布！《极紫外光刻（EUV）技术的兴起及其对未来新兴技术的启示》

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导语 2024年7月，美国安全与新兴技术中心（CSET）发布最新报告《极紫外光刻技术的兴起及其对未来新兴技术的启示》。该报告认为极紫外光刻（EUV）技术是近年来半导体行业出现的最重要的技术，报告探讨了该技术的发展背景、研究团体构成、出版物和重点技术领域，以及识别、保护和推广下一代新兴技术。元战略编译报告主要内容，以期为读者了解极紫外光刻技术的兴起及其对未来新兴技术的启示提供参考。 文末点击“阅读原文”，可获取原文PDF 一、摘要 2019年，首批采用极紫外光刻技术的商业电子产品发布时，这项技术被誉为“拯救摩尔定律的技术”。当今最先进的人工智能芯片、智能手机、自动驾驶系统和高性能计算机中都包含了使用极紫外光刻技术制造的芯片。目前，荷兰公司阿斯麦（ASML）已成为全球最大的极紫外光刻机供应商，但本 ………………………………