Nano letters：范德华纳米铁电异质结构！！

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本研究展示了一种在范德华（vdW）异质结构中集成可编程铁电层的方法，通过超低电压电子束光刻（ULV-EBL）技术在Al1−xBxN（AlBN）薄膜中编程铁电极化，生成尺寸小至35纳米的结构。通过在石墨烯/vdW堆叠上的AlBN上创建p-n结，证明了铁电场效应。这种无光刻胶、高分辨率、非接触式图案化方法为将铁电薄膜与包括过渡金属二硫化物（TMD）在内的各种二维层集成提供了新途径，实现了多功能设备的任意编程和自上而下的创建。 背景 范德华（vdW）异质结构因其在低维材料中的独特和多样性质而受到广泛关注。为了深入理解和探索这些性质，以及制造多样的纳米尺度量子器件，电静压操控的效率和低紊乱性至关重要。然而，实现精确和局部控制存在巨大挑战，这突显了研究和技术发展的一个关键领域。大多数自上而下的vdW层电静压门控方法依赖于电子束 ………………………………