主要观点总结
文章主要介绍了半导体光刻胶的重要性以及制造壁垒，包括其原材料和制造技术的依赖程度。同时，文章还提及了中国晶圆厂建设加速和芯片制程提升对半导体光刻胶市场的推动作用，以及专精特新企业助力国产进口替代的进展。此外，文章还分析了消费电子防盗解决方案的市场需求增长趋势，以及朗鸿科技在消费电子防盗展示行业的竞争地位、业绩增长、客户开拓和价值提升。
关键观点总结
关键观点1: 半导体光刻胶是光刻工艺的关键材料，其技术壁垒主要体现在原材料和制造技术上。
光刻胶的原材料包括树脂、光酸、添加剂和溶剂，其制造过程复杂，无法通过现有产品反推配方，且验证周期长，需要与客户高度协同。
关键观点2: 中国晶圆厂建设加速和芯片制程提升，推动了对半导体光刻胶的需求增长。
随着制程技术的发展，对光刻胶的使用量也将增加，中国晶圆厂建设加速和芯片制程提升，有望带动半导体光刻胶市场的快速发展。
关键观点3: 专精特新企业助力国产进口替代加速，国产光刻胶企业正逐步突破技术壁垒。
北交所作为专精特新企业的主阵地，聚集了一批优质公司，在半导体光刻胶领域实现了技术突破，有助于实现国产进口替代。
关键观点4: 消费电子防盗解决方案市场需求持续增长，朗鸿科技在防盗展示行业具有竞争优势。
朗鸿科技专注于智能手机、可穿戴设备等消费电子产品的防盗和展示解决方案，通过技术积累和产品创新，在行业内具有领先地位。
关键观点5: 朗鸿科技在消费电子防盗展示行业的业绩增长、客户开拓和价值提升。
朗鸿科技通过技术研发和产品线拓展，实现了营收和净利润的持续增长，同时拓展了新客户，提升了产品的价值量。
文章预览
导读 ● 逆风期尚未结束，指数持续缩量调整，红利高股息策略再度占优 ● 光刻胶是光刻工艺关键材料，半导体光刻胶原材料+制造技术壁垒高 ● 中国晶圆厂建设加速+芯片制程提升，驱动半导体光刻胶市场空间快速增长 ● 半导体光刻胶+原材料壁垒突破，“专精特新”企业助力国产进口替代加速 ⭐文末研究合集 | 我们专注新三板、北交所研究10年🏆 报告摘要 ● 光刻胶是光刻工艺关键材料，半导体光刻胶原材料+制造技术壁垒高 光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模板转移到待加工基片上的图形转移介质。光刻胶按应用领域分类可分为 PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶三大类，其中半导体光刻胶技术壁垒最高。 根据曝光波长的不同，半导体光刻胶可分为G线、I线、KrF、ArF 和 EUV 五种类型。 光刻
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