何时用下一代EUV光刻机？台积电这样说！

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👆如果您希望可以时常见面，欢迎标星🌟收藏哦~ 来源：内容来自经济日报 ，谢谢。 TechTechPotato YouTube 近期上传台积电资深副总暨副共同营运长张晓强29分钟、近半小时的访谈，期间张晓强回应主持人提问关于高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影设备相关议题时提到，相信台积电研发团队会做出最好决定，在合适的技术节点采用。 主持人提问最近参访晶圆厂，了解到ASML最新的high-NA EUV微影设备，而英特尔公开提到希望成为率先采用的厂商，不知道台积对high-NA EUV应用有什么规划？ 张晓强回应说，相信台积电研发团队将继续专注于新的EUV应用，这明显包含高数值孔径极紫外光设备，我们将选择合适的技术节点来使用，毕竟需要考虑很多因素。 张晓强也说，显然存在可扩展性因素，还有制造成本因素，所以我相信我们的研发团队会做出最好的决定 ………………………………