光刻机、康方挑战药王概念全梳理

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温馨提醒 ： 现在微信公众号功能改了，在 公众号主页 将公众号 设为星标 ，同时点右下角的 “在看” ，这样就可以第一时间收到文章了！ 盘前消息精选 热门题材梳理 1、光刻机 催化： 2024年9月9日，中国工业和信息化部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，氟化氩光刻机的关键技术参数。这款光刻机的晶圆直径为300mm，照明波长为193nm，分辨率达到≤65nm，套刻精度≤8nm。这些参数表明，该光刻机能够用于制造28nm工艺的芯片，对于提升国内半导体制造业的技术水平和自给自足能力具有重要意义。氟化氩光刻机的推广应用，预计将减少对国外技术的依赖，增强国内芯片产业的竞争力。 概念股： 同飞股份 海立股份 张江高科 凯美特气 京华激光 奥普光电 波长光电 金力泰 新莱应材  2、康方挑战药王 催化： 康方生物的AK1 ………………………………