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近日，上海优睿谱半导体设备有限公司（简称“优睿谱”）FTIR设备Eos300+交付国内12寸先进制程晶圆厂，用于化学气相沉积（CVD）制程工艺中Si-O、Si-H及N-H等化学键测量。 图1：Eos300+设备发货 优睿谱总经理唐德明博士介绍，Eos300+设备具有以下 技术特点 ： 该设备为12寸全自动设备，SECS/GEM对接工厂自动化。 Eos300+ 核心部件100%国产化，整机国产化率超过80%以上，保证设备供应链自主可控。 自主开发的元素浓度及化学键含量测量算法。 图2：Eos300+设备图片 优睿谱膜厚测量高端应用开发经理庄育军表示，FTIR的高端应用场景（如Si-H, Si-O等化学键含量测量；B/P/F等元素浓度测量）一直被国外设备供应商垄断。立足于本土供应链，通过和国内供应商特别是客户的紧密合作，优睿谱开发出适用于上述化学键测量的相关设备。 针对高端应用场景，优睿谱此前已发
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