攻克关键技术 东方晶源ILT技术剑指先进制程

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‍ 集微网·爱集微APP，各大主流应用商店均可下载 计算光刻作为现代芯片制造光刻环节的核心技术之一，其发展经历了从规则导向到模型驱动的转变。然而，随着制程迈向7nm乃至5nm节点，传统方法因规则局限、优化自由度不足等制约，难以满足复杂芯片设计的高要求。在此背景下，反向光刻技术（ILT）以其独特的优化思路应运而生。 ILT即从目标芯片图案出发，逆向推导获得最优化掩模图案，极大地提升优化的灵活性和精准度，更能满足先进制程对图形精度的苛刻需求。因此，在探索7nm及以下制程的征途中，ILT技术无疑将是提升制造良率的关键技术。尤其在尖端光刻设备受限的国内环境下，其重要性更是不言而喻。 东方晶源ILT技术再度革新 ILT并非一种新兴技术，但其存在诸如计算量大效率低，掩模复杂度高难于制造等技术难点，长期以来尚未得到 ………………………………