专栏名称: 低维材料前沿
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Nano Letters | 利用可控生长星形MoS₂的具有特定位置的晶界提升忆阻器性能!

低维材料前沿  · 公众号  ·  · 2025-01-08 10:52
    

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点击“蓝字”关注我们,了解更多信息 研究背景 随着计算技术的不断进步,人们对集成计算和存储的设备的需求日益增长。忆阻器作为一种很有希望的器件,由于能够集成计算和存储,且可用于创建一种新的计算范式,因而备受科学界和工业界的关注。二维材料,特别是以MoS 2 为代表的过渡金属硫族化合物(TMDs),因其极薄的厚度和独特的异质集成能力,可以作为集成计算和存储的忆阻切换器件的高潜力平台。在TMDs中的各种微纳米尺度缺陷结构中,晶界(GBs)作为最重要的结构之一,具有巨大的潜力,但由于它们的随机分布,这给晶界基器件的制作和深入研究带来了挑战。然而,晶界的随机和形成的不可控性给器件的制作带来了挑战。因此,实现具有特定位置晶界的TMDs材料对于阐示晶界与器件性能之间的关系至关重要。另外,晶界在二维材料 ………………………………

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