台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？

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最新消息 5月26日，台积电举办“2024年技术论坛台北站”的活动，台积电CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的ASML总部，以及位于德国迪琴根的工业激光专业公司TRUMPF。 ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源设备供应商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通过社交媒体透露了魏哲家秘密出访的行踪。Christophe Fouquet表示他们向魏哲家介绍了最新的技术和新产品，包括High-NA EUV设备将如何实现未来的半导体微处理技术。 NEWS ” 此前报道，台积电计划2026年下半年量产1.6nm制程工艺（A16）之后引入High-NA EUV光刻机。 魏哲家对ASML总部的秘密访问让人颇感意外， 可能与台积电目前正在考虑如何实现更先进的工艺技术有关。 台积电业务开发资深副总经理张晓强于5月14日出席在阿姆斯特丹举办的技术研讨会上表示：“ASML的High-NA EUV太贵了 ………………………………