EUV光刻机争夺战，正式开打

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👆如果您希望可以时常见面，欢迎标星🌟收藏哦~ 来源：内容由半导体行业观察（ID： icb an k）编译自businesskorea，谢谢。 随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。 此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO，放弃了内部重大活动，飞赴荷兰与ASML洽谈设备，此举标志着2纳米以下超精细工艺的竞争拉开序幕。 据业界消息及外媒5月26日报道，台积电CEO魏哲家缺席5月23日在台湾台北举行的“台积电技术研讨会2024”，而是前往荷兰埃因霍温的ASML总部和德国迪琴根的工业激光专业公司通快(TRUMPF)。 秘密出访的魏哲家行踪，被 ASML 执行长Christopher Fuke与通快执行长 Nicola Leibinger-Kammüller 在社交媒体曝光。Fuke执行长表示，“我们向魏总介绍了我们最 ………………………………