中国股市：光刻机迎来好利，翻倍增长启动！

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    光刻机（Lithography），又名掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统，是微电子制造中不可或缺的关键设备。它主要用于制造微电子芯片、半导体器件及其他微纳米加工工艺。光刻机通过光源和掩膜将光聚焦到感光材料上，形成微小图案。这一过程中，掩膜作为透明的玻璃板，其表面涂有用于芯片制造的图案，光线通过掩膜并聚焦在感光材料上，之后使用化学处理方法将图案固定在芯片表面。光刻机的工作原理和性能直接影响到微电子产品的质量和生产效率。     关于 光刻机的未来发展趋势 ，虽然没有明确提到将围绕哪四个点发展，但可以考虑以下几个方面：     提升分辨率和制程容差：随着芯片尺寸的持续缩小，传统光刻技术已接近或达到物理极限。为了突破这一限制，光刻机将致力于引入更短波长的光源，如极紫外（EUV）光源。EUV光刻 ………………………………