大湾区大学张国强/深圳大学米宏伟/深圳信息技术学院徐杨森ACS Nano：介电屏蔽缺陷抑制非辐射复合增强结晶氮化碳光催化活性

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第一作者：张国强 通讯作者：米宏伟和徐杨森 第一单位：大湾区大学(筹)物质科学学院 论文DOI：10.1021/acsnano.4c12938 全文速览 大量缺陷诱导的非辐射复合极大降低了光催化剂中的电荷分离效率。缺陷的介电屏蔽被证明是提高电荷分离效率的有效策略，然而在光催化中却鲜有报道。在这里，我们开发了新型聚七嗪酰亚胺钙(CaPHI)并用作模型光催化剂，以探索缺陷的介电屏蔽。通过在CaPHI中嵌入钾离子，PHI结构的偶极矩和极性增加，从而提高了介电常数，实现了缺陷的介电屏蔽。此外，与原始的CaPHI相比，优化Ca/KPHI的缺陷捕获截面减少了79.3%，非辐射复合速率从0.6224降低到0.1452 ns -1 ，从而在420 nm下实现了51.4%的光催化产氢量子效率。我们提出的介电屏蔽策略有效地解决了光催化剂中缺陷诱导的非辐射复合导致载流子传输和分离缓慢的问题。 背景介绍 半导 ………………………………