研究背景 太赫兹电磁波在成像、制导、通信、医疗及无损检测领域具有广阔应用前景,由此带来的电磁污染、电磁干扰问题日益显著,急需开发高性能的太赫兹波段电磁屏蔽材料。 当前,前驱体转化陶瓷材料被大量报道应用于微波电磁波屏蔽、吸波领域,但其太赫兹波段的电磁吸波性能关注较少。此外,下一代太赫兹电磁屏蔽器件往往复杂异形,传统的前驱体转化陶瓷成形方式通常只能制备粉体、薄膜或简单块体,光固化 3D 打印被大量报道应用于前驱体转化陶瓷复杂构件的成形,如果基于前驱体转化陶瓷的太赫兹电磁屏蔽材料能够光固化,将为后续复杂异形器件的研制开发提供极大便利。 文章简介 近日,北京理工大学何汝杰教授和李营教授带领研究团队制备了面向太赫兹电磁屏蔽的可光固化 Ti 3 C 2 T x MXene/SiOC (MSiOC) 陶瓷复合材料。该团队采用
………………………………