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英特尔稳步推进“四年五个制程节点”计划,加速实现在2025年推出尖端的制程节点Intel 18A。英特尔的两项突破性技术:RibbonFET全环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电技术,首次成功集成于Intel 20A制程节点,也将用于Intel 18A。 RibbonFET:栅极“环抱”晶体管 通过RibbonFET晶体管,英特尔实现了全环绕栅极(GAA)架构。在晶体管中,栅极扮演着关键的开关角色,控制着电流的流动。RibbonFET使得栅极能够全面环绕带状的晶体管沟道,这一创新带来了三大优势: 节约空间 晶体管沟道的垂直堆叠,相较于传统的水平堆叠,大幅减少了空间占用,有助于晶体管的进一步微缩; RibbonFET晶体管与FinFET晶体管(鳍式场效应晶体管)的对比示意图 性能提升 栅极的全面环绕增强了对电流的控制,无论在何种电压下,都能提供更强的驱动电流,让晶体管开关的速度更快,
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