武汉跑出一家光刻胶企业

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该款光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，业内人士认为，其对标产品是“很常用的胶”，门槛不算高。 作者 | 郑远方 郭辉 吴旭光 光刻胶产业化再度传出利好。 据东湖国家自主创新示范区官网今日（10月15日）消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。 该产品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异”。 据悉， 太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。 该团队立足于关键光刻胶 ………………………………