基于纳米压印光刻的超构表面制造方法为纳米光学打开大门

文章预览

半导体芯片的小型化使电子设备的尺寸和成本稳步下降，同样也使设计也不断改进。在透镜等光学元器件中，要实现像半导体芯片的类似进展则更为困难。 理论上，用于构成纳米级光学元器件的超构表面可以在制造硅芯片的同一半导体工厂中生产制造。然而，实际上，由于超构表面结构的复杂性，制造过程耗时且成本较高。 据麦姆斯咨询报道，近期，由亚利桑那州立大学（Arizona State University，ASU）Chao Wang教授领导的研究团队开发了一种可扩展的多层超构表面制造方法，可用于实现超紧凑光学、电子和量子器件的大面积功能结构。相关研究成果已发表在 Advanced Functional Materials 期刊上。 亚利桑那州立大学Chao Wang教授 该研究团队使用纳米压印光刻（NIL）技术在大面积上快速制造超构表面结构，以实现各种功能。为了无缝排列多层结构，该研究团队使 ………………………………