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论坛背景： "第二届国际红外成像高端论坛--非制冷红外成像技术的海量应用"由法国权威分析机构Yole Développement和中国国际光电博览会（CIOE）共同组织，将于2017年9月7日与CIOE 2017在深圳会展中心同期举办。本次会议将聚集全球顶尖红外行业专家与企业，共同探讨红外成像行业的最新应用和技术，让与会者获得最新最有价值的行业分析，更有机会与行业龙头企业面对面交流合作。 论坛亮点： - 2场主题分会聚焦红外成像应用和红外技术的最新进展 - 100+的听众将来自 Dali, Veeco, Sony, Ophir, Honeywell, i3system, Fluke, Flir, Melexis, Oxford Instruments Plasma 等业内知名企业 - 外商名企云集：ULIS, Ophir, Optris, HIK Vision, Heimann Sensors, SST Vacuum Reflow Systems, Fraunhofer Institut for Electronic Nano Systems ENA
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