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近日，光刻机全球第一龙头 AMSL 计划向 英特尔和台积电交付其最新研发的 顶级 EUV 光刻机 Hign-NA 。 据悉， 这款光刻机售价约高达 27.54 亿元，不仅能够 用来 生产 2nm 先进芯片 ，在 未来 10 年 还都将保持全球领先。 与此同时， SK 海力士和三星正在计划将金属氧化物光刻胶（ MOR ）用于 DRAM 内存的量产工艺来提高芯片性能并降低成本。 这不得不引起我们的警觉。光刻是芯片生产中 技术门槛最高的环节 ，光刻机和光刻胶，一个设备，一个耗材，在国外龙头悄么进步的同时，我们也得奋起直追才行。 国内光刻机上市公司相对稀缺，光刻胶相关公司数量却并不少，强力新材、华懋科技、容大感光、南大光电、艾森股份、彤程新材、上海新阳、鼎龙股份、晶瑞电材、双乐股份等几十家均有相关概念。 不过， 既正宗，业绩增长又好的没有几个 ，南大光电
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