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明确告诉大家， 美国的科技封锁措施已显现其局限性，达到了近乎穷途末路的境地。我国科技领域展现出了非凡的突破力，不仅在芯片设计领域成功打破了国际垄断，实现了国产替代，更在芯片制造的核心 —— 光刻机和刻蚀机领域，攀登至了世界之巅。 光刻机与刻蚀机，作为芯片制造流程中的关键设备，其重要性无可替代 ，它们的缺失足以让整个国家的半导体产业陷入停滞。 长期以来，这两种高端设备被欧美国家所掌控，这不仅使我国面临随时可能被切断供应的威胁，更对我国的芯片半导体产业安全构成了重大隐患。然而，凭借国内科研机构的不懈努力与追赶，我国终于在这两大关键技术领域取得了令人瞩目的成就。 清华大学的研究团队通过 “ 稳态微聚束 ” 原理 ，成功获得了高端 EUV 光刻机所需的关键光源，这一光源在太赫兹至极紫外波
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